一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置，包括抛光盘（1）、励磁线圈（2）、第一托盘（3）、传动机构和驱动机构，所述抛光盘（1）底部设有凹槽，所述凹槽为圆柱状，所述励磁线圈（2）的顶端与凹槽内壁通过轴承相连，所述励磁线圈（2）的底端上设有第二托盘（4），所述励磁线圈（2）的底端与第二托盘（4）固定连接，所述第二托盘（4）底面设有连接杆，所述连接杆通过轴承与第一托盘（3）相连，所述连接杆通过传动机构与驱动机构连接。本实用新型中，励磁线圈可以自转，实现磁场变化，且可以相对于抛光盘转动，实现磁场旋转，从而实现多角度的对待抛光物体抛光，提高抛光速率。
基本信息
专利标题 ：
一种可旋转磁场的磁流变3D抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022343089.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-20
授权号 ：
CN213765113U
授权日 ：
2021-07-23
发明人 ：
向定艾
申请人 ：
德阳展源新材料科技有限公司
申请人地址 ：
四川省德阳市旌阳区天元镇(景福)秋月村四组6幢
代理机构 ：
成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪林
优先权 ：
CN202022343089.5
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B31/112 B24B31/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2021-07-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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