一体黑镀膜盖板
授权
摘要
本实用新型公开了一体黑镀膜盖板，包括透明基板(1)、及设置在所述透明基板(1)外表面的减反吸收层，所述减反吸收层包括至少一层低折射率膜层、至少一层高折射率膜层、及至少一层金属Ti吸收膜层，所述金属Ti吸收膜层设置在所述减反吸收层的底层或中间层，所述减反吸收层的表层为低折射率膜层，所述减反吸收层位于表层下方的第二层为高折射率膜层。本实用新型提供的一体黑镀膜盖板，可实现熄屏一体黑效果。
基本信息
专利标题 ：
一体黑镀膜盖板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921476797.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-06
授权号 ：
CN210626697U
授权日 ：
2020-05-26
发明人 ：
刘君钧林浩
申请人 ：
苏州胜利精密制造科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区浒关工业园浒泾路55号
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
范晴
优先权 ：
CN201921476797.7
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 G02B1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-05-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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