本实用新型涉及真空炉设备技术领域，尤其是涉及一种多用真空炉系统，包括多个真空炉、搬送室和旋转盘；多个真空炉围绕旋转盘呈环形分布；搬送室位于旋转盘上，且搬送室在旋转盘的带动下旋转，使搬送室的出料口朝向不同的真空炉；旋转盘上设置有直线轨道，搬送室能够沿直线轨道做直线往复运动，使搬送室靠近或远离真空炉。本申请的多用真空炉系统的真空炉呈环形分布，通过一个搬送室能够实现对多个真空炉的供料和取料，减少了占地面积，在供料时搬送室行走距离短，对真空炉的供料和取料效率高。