一种用于薄膜测试的双工位支架
授权
摘要
本实用新型提供一种用于薄膜测试的双工位支架，支架本体包括底座，支架本体顶面设置有T型支架，T型支架的横杆两端为接口端，两个接口端上均各自通过升降装置与纳米压痕仪本体连接；底座顶面两端分别设置有工作台，两个纳米压痕仪本体的压头分别与靠近其一侧工作台的顶面中心对应布置；升降装置包括立柱。本实用新型结构合理，满足了两工位同时进行薄膜检测的要求，提高了工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于薄膜测试的双工位支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921513842.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-11
授权号 ：
CN211262938U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
陈波
申请人 ：
上海洋阅新材料科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区东方路3601号2号楼2822室
代理机构 ：
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李敏
优先权 ：
CN201921513842.1
主分类号 ：
G01N3/02
IPC分类号 ：
G01N3/02 G01N3/40
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N3/00
用机械应力测试固体材料的强度特性
G01N3/02
零部件
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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