一种上下盖空腔相变法兰结构
授权
摘要
本实用新型涉及上下盖空腔相变法兰结构，法兰结构包括上金属盖板、下金属盖板、金属支撑架、相变腔体、通孔泡沫金属和可相变介质，所述上金属盖板、下金属盖板和金属支撑架构成的内部空腔成为相变腔体，所述相变腔体填充有通孔泡沫金属，所述通孔泡沫金属填充满相变腔体，所述通孔泡沫金属中充满可相变介质。所述上下盖空腔相变法兰结构，兼用传导散热和相变散热的功能，保证芯片的散热效率，又提高了空腔的抗变形性能，使法兰不易受到破坏，延长法兰的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种上下盖空腔相变法兰结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921595042.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN210808039U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
马文珍
申请人 ：
佛山华智新材料有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地核心区内A区7座一层103单元
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921595042.9
主分类号 ：
H05K7/20
IPC分类号 ：
H05K7/20
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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