一种光学阵列制版装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光学阵列制版装置,属于制版技术领域,包括机体,所述机体的一侧连接有放置仓,所述放置仓的一侧安装有第一固化灯,所述第一固化灯的外表面设置有保护罩,所述机体的顶部中间连接有支撑台,所述支撑台的内部安装有多个光纤传感器,该种光学阵列制版装置,设置有支撑台、传送带和光纤传感器,由于支撑台位于传送带的下方,且其顶部与传送带相接触,因此当使用者在将承印物放置在传送带上并对其进行压印时,支撑台可对传送带进行支撑,避免传送带受到压辊挤压时发生凹陷变形,从而影响装置对承印物的压印效果,且由于多个光线传感器位于支撑台的内部,因此可时刻对承印物的位置进行检测。

基本信息
专利标题 :
一种光学阵列制版装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921707737.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-12
授权号 :
CN210466004U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
吴冬建黄俊生张东海刘欢欢
申请人 :
火星时代光电科技(深圳)有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区龙岗街道龙东社区爱南路78号利好工业园B栋108-3
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
李枝玲
优先权 :
CN201921707737.1
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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