一种光学微纳结构制版装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光学微纳结构制版装置,属于制版技术领域,包括底座,所述底座的顶部分别固定有支撑架和工作台,所述支撑架的内部上方开设有第一滑槽,所述第一滑槽的内部连接有滑板;设置有第二电机、第二丝杆、第二螺纹套、滑块、第二滑槽、限位板,当使用者将UV纳米模板放置在工作台上后,使用者通过操作台打开第二电机,第二电机工作使第二丝杆转动,第二丝杆转动使第二螺纹套滑动,第二螺纹套滑动带动限位板移动,同时使滑块在第二滑槽内滑动,限位板移动以对UV纳米模板进行固定,防止在对UV纳米模板进行压印的过程中出现移位,避免压印出现错误,同时限位板上的橡胶可以防止UV纳米模板磨损,以对其起到防护作用。

基本信息
专利标题 :
一种光学微纳结构制版装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921694832.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-11
授权号 :
CN210466003U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
黄俊生张东海吴冬建刘欢欢
申请人 :
火星时代光电科技(深圳)有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区龙岗街道龙东社区爱南路78号利好工业园B栋108-3
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
李枝玲
优先权 :
CN201921694832.2
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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