三维微纳结构光刻系统及其方法
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摘要

一种三维微纳结构光刻系统,包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台,数字掩模装置与空间光调制器电性连接,投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间,旋转工作台用于固定待光刻的基片;数字掩模装置用以生成数字掩模,数字掩模包括图形曝光区,数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器,空间光调制器用以显示数字掩模,空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜,图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比;投影物镜将图形光投影在基片上,旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统,结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。

基本信息
专利标题 :
三维微纳结构光刻系统及其方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112799286A
申请号 :
CN201911115238.8
公开(公告)日 :
2021-05-14
申请日 :
2019-11-14
授权号 :
CN112799286B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
邵仁锦浦东林朱鹏飞张瑾朱鸣徐顺达吕帅陈林森
申请人 :
苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 :
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 :
周景
优先权 :
CN201911115238.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F7/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191114
2021-05-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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