低反射率吸光微纳结构制备系统

授权

摘要

本实用新型涉及一种低反射率吸光微纳结构制备系统，其包括：工作台；加工电源，所述加工电源设置于所述工作台上；试验箱，所述试验箱设置于所述工作台上，所述试验箱内用于放置待加工工件，所述待加工工件用于与所述加工电源的正极连接；辅助电极，所述辅助电极设置于所述试验箱内并与所述加工电源的负极连接，所述辅助电极与所述待加工工件间隔相对布置；及纳米颗粒混合系统，所述纳米颗粒混合系统设置于所述试验箱上并用于向所述待加工工件的表面涂覆纳米混合胶体。相较于传统的激光、电火花加工而言，本系统的加工过程不会产生热影响区，工件表面不会产生微裂纹，可大大保证工件加工稳定性和质量。

基本信息

专利标题：

低反射率吸光微纳结构制备系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022219490.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-30

授权号：

CN213739742U

授权日：

2021-07-20

发明人：

秦艳胡椿杭赵湖钧王大伟何俊峰白云山乔建仙

申请人：

中国人民解放军陆军勤务学院

申请人地址：

重庆市沙坪坝区大学城北一路20号

代理机构：

惠州知侬专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

罗佳龙

优先权：

CN202022219490.8

主分类号：

C25D13/00

IPC分类号：

C25D13/00 C25D13/22