一种正交光栅型微纳结构的制备方法及制备系统
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种正交光栅型微纳结构的制备方法及制备系统,包括:通过分束镜将由纳秒激光器产生的单光束分为两条光束;通过光学透镜组将所述两条光束会聚到样品架,形成双光束干涉条纹光场;调整纳秒激光器的加工参数,以使纳秒激光器满足预设的单位面积激光功率密度;其中,在所述预设的单位面积激光功率密度下的所述纳秒激光器能同时刻蚀出双光束干涉直写条纹结构与激光辐照诱导条纹结构;通过扫描控制,控制所述纳秒激光器对放置在样品架上的样品进行激光扫描加工,以使利用所述双光束干涉条纹光场在所述样品的表面上刻蚀出正交光栅型微纳结构。本发明解决了现有技术不能一步制备在不同方向上观察到结构色的正交光栅型微纳结构的技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种正交光栅型微纳结构的制备方法及制备系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114509836A
申请号 :
CN202210184454.3
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2022-02-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
江绍基李锐豪周桑霓黄敏
申请人 :
中山大学
申请人地址 :
广东省广州市新港西路135号
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
麦小婵
优先权 :
CN202210184454.3
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20220225
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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