一种超双疏的微纳复合结构及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明属于微纳米加工技术领域,提供了一种超双疏的微纳复合结构及其制备方法。本发明利用光刻和元素刻蚀,在基底表面制备悬垂的微米孔阵列;再利用紫外光纳米压印技术在微米孔阵列上压印纳米结构,即可获得超疏水和超疏油性能的微纳复合结构。本发明提供的制备方法具有制备周期短和可重复性高的优点,制备得到的超双疏的微纳复合结构具有优异的疏水疏油性,在自清洁、防腐蚀和防污方面,有广阔的应用前景。实施例的数据表明:本发明提供的超双疏的微纳复合结构水接触角为150~162.8°,油接触角为150~154.8°。

基本信息
专利标题 :
一种超双疏的微纳复合结构及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114265281A
申请号 :
CN202111527592.9
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱昕越葛海雄
申请人 :
南京大学
申请人地址 :
江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
代理机构 :
北京高沃律师事务所
代理人 :
霍苗
优先权 :
CN202111527592.9
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  B81C1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20211214
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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