一种微纳结构激光窗口及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种具有高透过高阈值抗激光损伤性能的微纳结构激光窗口的制备方法，其步骤包括：(1)利用化学试剂超声清洗抛光后的石英玻璃；(2)利用微量注射泵进行聚苯乙烯微球自组装并将其转移到超声清洗后的石英玻璃上；(3)利用反应离子刻蚀技术对带有聚苯乙烯微球的石英基底进行刻蚀，在石英基底上制备微纳结构；(4)利用化学试剂对石英基底进行清洗，除去未完全反应的聚苯乙烯微球；(5)对制备的石英微纳结构激光窗口进行透过率测试，并利用强激光对其进行辐射检测其性能，证明具有高透过高阈值抗激光损伤的微纳结构激光窗口的成功制备。该方法制备的微纳结构激光窗口透过率高，增透波段宽，抗激光损伤性能强，并且方法简单。
基本信息
专利标题 ：
一种微纳结构激光窗口及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114590771A
申请号 ：
CN202011430293.9
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李刚滕飞刘锐金玉奇
申请人 ：
中国科学院大连化学物理研究所
申请人地址 ：
辽宁省大连市沙河口区中山路457-41号
代理机构 ：
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 ：
马驰
优先权 ：
CN202011430293.9
主分类号 ：
B81C1/00
IPC分类号 ：
B81C1/00 B81B1/00 G02B1/118
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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