一种光刻样品及微纳结构跟踪装置及方法
实质审查的生效
摘要

一种光刻样品及微纳结构跟踪装置及方法,包括系统光路的搭建,数据标定,实验测试等步骤。针对象散法容易受到噪声影响的问题,提供了一种差分象散法实现高速高精度的跟踪;针对功率探测器件容易受微纳结构表面反射率的影响,提供了一种光斑直径法实现微纳结构表面的高精度跟踪。对于刻写光刻样品时,要求高数值孔径物镜、高速度与精度跟踪,以差分象散法为主跟踪,并借助光斑直径法为限位,确保跟踪精度与稳定性;对于微纳结构跟踪时微纳结构表面反射率不均匀,因此以光斑直径法为主跟踪,并根据差分象散法快速获取准焦位置,提高跟踪速度与精度。本发明实现了光刻样品与微纳结构高速高精度高可靠性的跟踪,具有很好的应用价值。

基本信息
专利标题 :
一种光刻样品及微纳结构跟踪装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114544498A
申请号 :
CN202210157315.1
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-02-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
许孝忠刘星魏劲松
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 :
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张宁展
优先权 :
CN202210157315.1
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/3563  G01N21/84  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/01
申请日 : 20220221
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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