一种半导体清洗剂的生产装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体清洗剂的生产装置，属于半导体加工领域。该生产装置包括:安装部；搅拌组件；搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；驱动机构，所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内。本实用新型可以在搅拌组件进行搅拌操作的同时，通过往复机构带动搅拌室进行运动，从而可以大大提高对半导体清洗剂原料的搅拌效果。另外，本实用新型还通过设置循环机构，可以使搅拌室内的半导体清洗剂原料进行循环流动，从而可以进一步提高对原料的搅拌效果。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体清洗剂的生产装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921731666.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-16
授权号 ：
CN210787161U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
吴海伟孙孝虎吴海雷
申请人 ：
江西宏伟龙科技有限公司
申请人地址 ：
江西省九江市九江县赤湖工业园
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921731666.9
主分类号 ：
B01F11/00
IPC分类号 ：
B01F11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01F
混合，例如，溶解、乳化、分散
B01F11/00
具有抖动，摆动或振动机构的混合机
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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