一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台
授权
摘要
本实用新型涉及铝膜工艺技术领域，具体为一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，包括真空舱，真空舱中设置有控制装置，控制装置包括扩散箱、铰接座、升降座和压力装置，扩散箱形状为一端开口的箱壳体结构，扩散箱的上端连接有铰接座，铰接座的两端各设置有一个升降座，扩散箱上和铰接座相邻的两个侧壁上各设置有一个压力装置，且两个压力装置对称分布，压力装置包括控制体、弹簧片、控制块、蜗杆、控制板和辅助轮，本实用新型构造设计实现了铝气体高效附着到待加工膜上，且避免了铝气体的浪费，提高镀铝膜的工作质量，进而提高产品合格率，很具有实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921745074.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN211005581U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
曹劲松
申请人 ：
江苏鹏翔包装材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市泗阳县经济开发区广东路11号
代理机构 ：
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
仲晖
优先权 ：
CN201921745074.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
