一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置
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摘要
本实用新型公开了一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置，包括真空室体、阴极布气装置和真空室内环境布气装置，所述阴极布气装置包括护罩住阴极体及靶材的阴极外罩，阴极外罩和阴极体绝缘，阴极外罩通过供气管道与工艺气体馈入接口连接，在阴极外罩内部设有通气孔，通气孔把引入的工艺气体分成两路或多路汇合在阴极外罩一端的布气环内，在布气环朝向靶面的一侧均匀分布有多个喷气孔，所述真空室内环境布气装置包括沿真空室体内壁周边均布的多个布气管，在布气管上分布有布气孔，每个布气管单独通过供气管道与工艺气体馈入接口连接。本实用新型的布气装置保证了移动阴极在动态工作时工艺气体供给的稳定性、均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921761892.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-21
授权号 ：
CN211199393U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
刘国利周毅李国强
申请人 ：
湖南玉丰真空科学技术有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市九华示范区大众东路2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921761892.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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