一种真空镀膜工艺及装置
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摘要
本发明公开了一种真空镀膜工艺及装置，包括步骤一：将产品放入超声波清洗槽中进行表面清洗；步骤二等步骤，此真空镀膜工艺及装置，通过在真空镀膜机本体底端的两个导轨之间设有的拉动导向装置，从而可以对产品进行镀膜时，可以便于转盘底端的两个导向板进行导向定位的作用，使转盘底端的两个导向板稳定的连接入导轨内部，实现转盘与真空镀膜机本体的稳定快速连接，同时连接后的转盘在升降小车的支撑下以及在拉动导向装置的驱动下，能够使转盘通过两个导向板自动沿着真空镀膜机本体内部进行稳定移动，并将转盘底端的阳极连接件与真空镀膜机上的阳极进行稳定连接的作用，有效防止阳极受力过大而损坏或受力过小而无法稳定通电连接的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜工艺及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111593314A
申请号 ：
CN202010447499.6
公开（公告）日 ：
2020-08-28
申请日 ：
2020-05-25
授权号 ：
CN111593314B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
赵池平李辉
申请人 ：
宁波大榭开发区佳洁锌铸件有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市大榭开发区南湖路101号
代理机构 ：
北京君恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑黎明
优先权 ：
CN202010447499.6
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2020-09-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/50
申请日 : 20200525
申请日 : 20200525
2020-08-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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