一种真空镀膜反光产品及其制备工艺

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摘要

本发明涉及反光材料技术领域，具体涉及一种真空镀膜反光产品及其制备工艺，其包括如下步骤：1）选择基膜，将基膜送入真空蒸镀室中，在基膜的表面真空蒸镀一层真空镀层；2）在镀层基膜的真空镀层上涂布复合胶，经过烘道烘干后与基材进行第一次的热压复合；3）将步骤2制备的基材复合层送入第二复合位置前剥离基膜；4）将基材上的真空镀层直接与反光植珠膜上的玻璃微珠面进行第二次热压复合，第二次热压复合后剥离保护膜和植珠胶即得真空镀膜反光产品；本发明公开的真空镀膜反光产品的制备工艺可以很好的控制镀层厚度，使得镀层厚度更加均匀，实现较高的反光亮度和炫彩效果，极大提高了制备的反光产品的市场竞争力。

基本信息

专利标题：

一种真空镀膜反光产品及其制备工艺

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112859221A

申请号：

CN202110060041.X

公开（公告）日：

2021-05-28

申请日：

2021-01-18

授权号：

CN112859221B

授权日：

2022-05-17

发明人：

刘思远蔡万泼

申请人：

合肥市辉耀真空材料有限责任公司

申请人地址：

安徽省合肥市长丰双凤经济开发区凤庆路东侧

代理机构：

合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

汪纲

优先权：

CN202110060041.X

主分类号：

G02B5/128

IPC分类号：

G02B5/128