一种光学真空镀膜用产品固定架
授权
摘要
本实用新型公开了一种光学真空镀膜用产品固定架，包括底架和侧架，底架的底端四个拐角处均安装有滚轮，底架的顶端四个拐角处均焊接有侧架，侧架的中部焊接有侧架连接杆，侧架连接杆的内部安装有制动箱，制动箱的内部安装有齿轮箱，齿轮箱的一侧连接有电机，制动箱的一侧焊接有轴承，该真空镀膜用的镀膜件固定架可以从镀膜箱内自动伸出，便于工作人员在固定架上进行取放镀膜件，而且可以调节托盘的高度，从而调节托盘上的坩埚高度，根据不同大小的镀膜件，从而调节合适的位置，该固定架可以固定不同大小形状的镀膜件，可以带动镀膜件进行来回的旋转，不仅能提高镀膜质量，使得镀膜更加均匀，而且也提高冷却效率，整体灵活性强。
基本信息
专利标题 ：
一种光学真空镀膜用产品固定架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921712181.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-14
授权号 ：
CN210481510U
授权日 ：
2020-05-08
发明人 ：
陈晓东
申请人 ：
常州鑫立离子技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市天宁区郑陆镇青松村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921712181.5
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-05-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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