一种用于回旋加速器高频水冷接口的真空密封装置
授权
摘要
本实用新型提出了一种用于回旋加速器高频水冷接口的真空密封装置，包括上下两层，上层为水冷密封组件、下层为真空密封组件；上层的水冷密封组件和下层的真空密封组件上还分别布设有各自的多个入水孔和多个出水孔；上层水冷密封组件和下层真空密封组件之间还设有连接上下两层入水孔和出水孔的水冷接头：其特征在于：该水冷密封组件和真空密封组件相配合，实现将上层水冷密封组件的一路进水分配给下层真空密封组件的多路进水、将下层真空密封组件的多路出水合并为上层水冷密封组件的一路出水。本实用新型不仅减少了一道密封，而且由于改进后的密封面积大，能够彻底解决漏孔的问题，有效降低的维护成本和安装成功。
基本信息
专利标题 ：
一种用于回旋加速器高频水冷接口的真空密封装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921773186.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-18
授权号 ：
CN211321602U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
朱晓锋张素平潘高峰宋国芳
申请人 ：
中国原子能科学研究院
申请人地址 ：
北京市房山区新镇北坊
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
卓凡
优先权 ：
CN201921773186.9
主分类号 ：
H05H7/00
IPC分类号 ：
H05H7/00 H05H13/00 H05K7/20
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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