一种用于真空室的循环水冷旋转密封工件台，用于半导体器件工艺中微细图形转移设备－离子束刻蚀机中基片的冷却，它有装在真空门真空侧的支板，支板上有安装了通水轴的水套体，通水轴的前、后两端分别装有前端轴承和后端轴承，后端还装有压紧螺母的该通水轴的前端装有锥齿轮和工件支板，锥齿轮经齿轮传动副同电动机主轴相连，进出水软管的进水口和出水口同所述通水轴的出水口和进水口对应连通，在所述通水轴的出水口和进水口两侧的轴体上分别设有O型密封圈，在所述前端轴承和后端轴承内侧的通水轴部位与水套体之间设有JU型密封圈。它可以将水冷旋转密封体安装在真空室内，结构紧凑，方便实现旋转密封的多维方向的运动。