一种高密封真空室装置
专利权的终止
摘要

本实用新型为了解决现有真空室装置因密封性不好,真空室中难以形成负压,产品不能完全脱挥,导致影响产品质量的问题,公开了一种高密封真空室装置,其包括真空室主体与真空插件,真空室主体与真空插件通过螺纹连接并固定在真空螺筒上,在所述真空室主体的底部设置有凹槽,所述凹槽中嵌有橡胶密封圈。与现有同功能真空室装置相比,本实用新型的真空室主体与真空插件可紧密贴合,大大提高了两者之间的密封性,真空室中容易形成负压,产品能够完全脱挥,保证了产品质量的稳定。

基本信息
专利标题 :
一种高密封真空室装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720076915.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-12-21
授权号 :
CN201140518Y
授权日 :
2008-10-29
发明人 :
田须然赵宇
申请人 :
上海金发科技发展有限公司;广州金发科技股份有限公司
申请人地址 :
201714上海市青浦区朱家角工业园康园路88号
代理机构 :
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
代理人 :
吴泽群
优先权 :
CN200720076915.6
主分类号 :
B29C47/76
IPC分类号 :
B29C47/76  
法律状态
2011-03-09 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101055736681
IPC(主分类) : B29C 47/76
专利号 : ZL2007200769156
申请日 : 20071221
授权公告日 : 20081029
终止日期 : 20100121
2008-10-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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