真空腔室的真空平衡结构

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摘要

本实用新型涉及真空贴合的技术领域，公开了真空腔室的真空平衡结构，包括处于真空腔室内的治具板，治具板内设有内腔室；治具板上具有吸合面，吸合面上设置有静电吸片以及真空吸孔，真空吸孔与内腔室连通；治具板上设有连通孔以及平衡孔，连通孔及平衡孔分别连通内腔室及外部，真空发生器通过连接管与连通孔连接；平衡孔上设置有自动平衡结构，内腔室内的压力大于真空腔室内的压力时，自动平衡结构打开平衡孔，内腔室与真空腔室连通；治具板处于真空腔室，内腔室的压力大于真空腔室的压力时，自动平衡结构打开平衡孔，内腔室与真空腔室连通，使内腔室与真空腔室的压力一致，工件的表面没有压差，治具板通过静电吸片吸附工件，实现对工件的固定。

基本信息

专利标题：

真空腔室的真空平衡结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921475560.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-05

授权号：

CN210588923U

授权日：

2020-05-22

发明人：

黄奕宏刘驰秦超尹国伟刘瑶林方明登韩宁宁曹术陈锦杰杨杰庄庆波林锋邓慧建黄露徐星明温业锋陈浩林伟龙

申请人：

深圳市深科达智能装备股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区福永街道征程二路2号A栋、B栋第一至三层、C栋第一层、D栋

代理机构：

深圳市壹品专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

江文鑫

优先权：

CN201921475560.7

主分类号：

B25B11/00

IPC分类号：

B25B11/00