等离子处理真空腔体结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种等离子处理真空腔体结构，包括绝缘体、电极板、第一腔体和与所述第一腔体相配合的第二腔体，所述绝缘体设置于所述第一腔体内，所述电极板设置于所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上，所述第一腔体、第二腔体围成等离子处理空间。将等离子处理腔体结构设计为可拆分的第一腔体和第二腔体，第一腔体用于固定绝缘体和电极板等部件，第二腔体可用于运输待处理产品，搭配自动传送生产线等可实现自动上下料，提高产品处理效率。
基本信息
专利标题 ：
等离子处理真空腔体结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020488764.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-07
授权号 ：
CN211455641U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
罗弦
申请人 ：
深圳市诚峰智造有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼
代理机构 ：
深圳市博锐专利事务所
代理人 ：
王芳
优先权 ：
CN202020488764.0
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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