本实用新型公开了一种真空等离子处理设备及其处理腔体，包括气缸、上腔体和下腔体，所述上腔体内设有第一空腔，第一空腔的内侧壁上设有镜面不锈钢护罩，所述下腔体内设有第二空腔，所述第二空腔内设有电极，所述电极电极的上方及侧面设有绝缘片，电极的下端设置绝缘底板，所述气缸与上腔体连接，气缸带动上腔体上下滑动，所述电极的下端连接电极馈入件，本实用新型的真空等离子处理设备及其处理腔体适用范围广泛，可以大范围的用于半导体、摄像头、指纹模组等流水线制成设备的架设处理要求，采用上下腔体的结构，在下电极的周围设置绝缘层，被处理物体表面造成损伤或者二此次污染，降低二次污染及批量式清洗可能出现的损伤几率。