一种在线式半导体真空等离子处理设备
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种在线式半导体真空等离子处理设备,包括第一滑块、底板、万向脚轮、活动门板和报警三色灯底座,所述第一滑块顶部连接有第一推料杆,所述多层料盒底部设置有升降台,所述传送带输送轨道上方设有扫码装置,所述传送带输送轨道底部滑动连接有第三滑轨,所述底板下方设置有升降底板,所述底板底部滑动连接有第四滑轨,所述升降底板底部滑动连接有第五滑轨,所述顶升机构上方安装有清洗腔体。本发明通过设计的第一推料杆、升降台、多层料盒、第二推料杆、底板、升降底板、顶升机构和清洗腔体,构成了一套自动化的设备,既可对产品进行自动上料和下料,还可让产品在真空等离子系统进行全方位的清洗,提高清洗的效果。

基本信息
专利标题 :
一种在线式半导体真空等离子处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334720A
申请号 :
CN202111503867.5
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱志山
申请人 :
苏州爱特维电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市长兴东路268号
代理机构 :
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
安琳
优先权 :
CN202111503867.5
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01J37/32  B08B7/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211210
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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