等离子处理设备
实质审查的生效
摘要
本申请实施例公开了一种等离子处理设备，等离子体发生器用于朝第一方向输出等离子体；等离子体发生器、基板载台、框形载台沿第一方向依次设置，等离子体通过基板载台的等离子处理开口输出至基板的待处理表面；其中，容纳腔包括基板载台分割而成的第一腔体和第二腔体，第一腔体和第二腔体通过等离子处理开口连通；其中，当基板设置于基板载台上时，框形载台接触基板载台的表面和基板远离基板载台的表面，以使得第一腔体和第二腔体隔离，从而防止等离子体向待处理基板的待处理表面的背面逸散，可以限定等离子处理的范围，从而提升显示面板的性能。
基本信息
专利标题 ：
等离子处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114360999A
申请号 ：
CN202111648858.5
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蔡瀚霆匡友元
申请人 ：
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨艇要
优先权 ：
CN202111648858.5
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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