等离子体处理装置
公开
摘要
本发明提供一种等离子体处理装置，能够提高等离子体的面内均匀性。等离子体处理装置具有腔室、第一下部电极、第二下部电极、第一上部电极、第二上部电极以及第一电源。第一下部电极设置于腔室的内部，所述第一下部电极具有用于载置基板的基板载置区域。第二下部电极配置于基板载置区域的外侧的区域。第一上部电极与基板载置区域相向地配置。第二上部电极配置于第一上部电极的外侧的区域，并与第二下部电极相向地配置。第一电源向第一下部电极供给具有周期性的信号。第二下部电极和第二上部电极中的至少一方具有凹部。第二下部电极或第二上部电极位于针对凹部的表面的法线上。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114388329A
申请号 ：
CN202111194324.X
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
舆水地盐
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111194324.X
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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