等离子体处理装置
公开
摘要
本发明涉及一种等离子体处理装置。使腔室的内壁的温度均匀性提高。提供一种该等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置包括：圆筒状的腔室，其形成对基板进行处理的处理空间；以及构件，其构成所述腔室的外周，所述构件具有：流路的入口，其至少为一个，供传热介质流入；流路的出口，其至少为一个，供传热介质流出；流路，其至少为一个，将所述入口和所述出口连接，供传热介质流动；以及折返部，其至少为一个，形成于所述流路，所述入口和所述出口靠近地配置，所述流路沿所述构件的圆周方向以360°以内的特定的角度形成。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496696A
申请号 ：
CN202111214062.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-10-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小舩贵基
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111214062.9
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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