等离子体处理装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种等离子体处理装置，包括：气路部件，气路部件为环形腔体结构，气路部件具有多个第一出气孔和多个第二出气孔，多个第一出气孔沿环形腔体周向间隔分布，且第一出气孔贯穿环形腔体的下壁，第一出气孔的轴线与环形腔体的轴线平行；多个第二出气孔沿环形腔体周向间隔分布，且第二出气孔的轴线与环形腔体的轴线形成一倾斜角。从多个第一出气孔出来的气流沿环形腔体的轴线方向竖直吹向晶圆的周边区域；从多个第二出气孔出来的气流向晶圆圆心方向倾斜，增大了晶圆中心区域的气流，从而提高晶圆中心区域的活化度，使晶圆表面的活化度趋于一致，使待键合的晶圆的表面键合力均匀，进而提高键合质量。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921902275.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-06
授权号 ：
CN210443521U
授权日 ：
2020-05-01
发明人 ：
刘洋
申请人 ：
武汉新芯集成电路制造有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
代理机构 ：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹廷廷
优先权 ：
CN201921902275.9
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-05-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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