等离子体处理装置
授权
摘要
本发明提供一种等离子体处理装置，其能够减少飞散在处理室内的颗粒。该等离子体处理装置包括处理室、第一部件和第二部件。处理室形成在其中生成等离子体的处理空间，并利用等离子体来处理收纳于处理空间内的被处理体。第一部件具有面向处理空间的第一面，且配置在处理室内。第二部件配置在比第一部件靠处理空间侧的处理室内，具有面向处理空间的第二面，该第二面被包含在与包含第一面的平面或曲面交叉的平面或曲面中。在第一部件和第二部件的截面中，在包含第一面的平面或曲面与包含第二面的平面或曲面的交点附近的、第一部件与第二部件之间，形成有空隙。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110648890A
申请号 ：
CN201910547433.1
公开（公告）日 ：
2020-01-03
申请日 ：
2019-06-24
授权号 ：
CN110648890B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
町山弥里吉务
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN201910547433.1
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-02-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20190624
申请日 : 20190624
2020-01-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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