等离子体处理装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种等离子体处理装置，能够抑制由贯通孔引起的异常放电的发生。等离子体处理装置具有：静电卡盘，其具有载置被处理体的载置面和与所述载置面相对的背面，在该静电卡盘形成有贯通所述载置面和所述背面的第一通孔；以及基台，其具有支承所述静电卡盘的支承面，在该基台形成有与所述第一通孔连通的第二通孔，在该第一通孔和第二通孔内具有嵌入构件，其中，所述嵌入构件的与所述静电卡盘的所述第一通孔和所述基台的所述第二通孔的连通部分对应的部分至少由弹性构件形成。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512391A
申请号 ：
CN202210089374.X
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2017-12-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
佐佐木康晴石川聪千叶谅
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202210089374.X
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20171205
申请日 : 20171205
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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