真空等离子处理系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空等离子处理系统，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。无需人工操作，整个过程均可自动进行，处理效率高，且处理效果好。
基本信息
专利标题 ：
真空等离子处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020493562.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-07
授权号 ：
CN211507568U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
罗弦
申请人 ：
深圳市诚峰智造有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼
代理机构 ：
深圳市博锐专利事务所
代理人 ：
王芳
优先权 ：
CN202020493562.5
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211507568U.PDF
PDF下载
