提供提升样品的蚀刻处理的均匀性、进而提升成品率的等离子处理装置以及等离子处理方法。在对放置在配置于真空容器内部的处理室内的样品台的上表面上方的晶片使用在该处理室内形成的等离子进行处理的等离子处理装置或等离子处理方法中，多个电极配置于所述样品台中央部以及其外周侧的区域，多个高频电源对多个电极各自提供高频电力，多个供电用路径将所述多个电极以及高频电源各个之间电连接，连接路径经由线圈将多个供电用路径上的匹配器与所述电极之间的部位彼此电连接，对应于流过所述供电用的路径的高频电力的相位差的大小来调节连接路径的所述线圈的电感，使得所述高频电力的电压成为极大值或极小值。