等离子处理装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种等离子处理装置，包括喷枪机构、机架和用于固定待处理产品的固定机构，所述喷枪机构和固定机构分别固定设置于所述机架上，且所述喷枪机构设置于所述固定机构的上方，所述固定机构包括底座、旋转件和用于吸附所述待处理产品的吸附件，所述旋转件相对于所述底座可转动设置，所述吸附件相对于所述旋转件可转动设置，且所述旋转件相对于所述底座的转动轨迹与所述吸附件相对于所述旋转件的转动轨迹存在夹角。本实用新型的等离子处理装置可以对不同形状、类型的待处理产品进行处理，且可以对同一待处理产品的不同位置进行处理，无需反复调整待处理产品的位置，处理效率高，适应性强。

基本信息

专利标题：

等离子处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920931933.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-19

授权号：

CN210040121U

授权日：

2020-02-07

发明人：

蔡卫罗弦卢永锦史健勇孙晓华

申请人：

深圳市诚峰智造有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼

代理机构：

深圳市博锐专利事务所

代理人：

林栋

优先权：

CN201920931933.0

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32