等离子处理装置
实质审查的生效
摘要
等离子处理装置具备：对样品进行等离子处理的处理室；供给用于生成等离子的第一高频功率的第一高频电源；载置所述样品的样品台；对所述样品台供给第二高频功率的第二高频电源，在该等离子处理装置中，进一步具备：控制装置，在通过具有第一期间和与所述第一期间相邻的第二期间的第一波形来调制所述第一高频功率、并且通过具有期间A和期间B的第二波形来调制所述第二高频功率的情况下，控制所述第二高频电源，以便在所述第一期间和所述第二期间供给所述期间A的各个所述第二高频功率，所述第二期间的振幅比所述第一期间的振幅小且比0大，所述期间A的振幅比所述期间B的振幅大。
基本信息
专利标题 ：
等离子处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114521283A
申请号 ：
CN202080020805.6
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
池田纪彦山田一也
申请人 ：
株式会社日立高新技术
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
吴秋明
优先权 ：
CN202080020805.6
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200827
申请日 : 20200827
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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