等离子处理装置
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摘要
在通过将衬底(11)容纳在处理腔(6)中而实现等离子处理的等离子处理装置中，由陶瓷制成的固定引导件(12)和可移动引导件(13)沿Y方向(沿衬底运输方向)排列，以引导保持在陶瓷制成的安装板(10)上的衬底的两个侧端部，并且可移动引导件(13)的两个端部由支撑构件支撑。在该构造中，这些支撑构件安装到沿Y方向布置的固定构件(15A和15B)上，安装板(10)设置在所述固定构件(15A和15B)之间，从而Y方向上的间距可调整。因此，陶瓷制成的引导构件(13)可以安装和拆卸，而不需要直接对其进行螺栓连接，并且可以通过将具有不同宽度尺寸的多产品薄类型衬底用作目标来防止产生不正常放电。
基本信息
专利标题 ：
等离子处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1943012A
申请号 ：
CN200680000112.0
公开（公告）日 ：
2007-04-04
申请日 ：
2006-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
是永哲雄永留隆二
申请人 ：
松下电器产业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王冉
优先权 ：
CN200680000112.0
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 H01L21/677 H01J37/32 H05K13/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2009-04-01 ：
授权
2007-12-26 ：
实质审查的生效
2007-04-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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