翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备，腔门结构包括滑轨、滑动安装在滑轨上的安装架以及转动连接在安装架内部的腔门，腔门两侧均设有料架托盘，腔门中部穿装有竖向旋转轴，竖向旋转轴安装在安装架内部，竖向旋转轴由位于安装架顶部的驱动机构A驱动，腔门在驱动机构A的作用下绕着竖向旋转轴在安装架内部旋转，安装架由位于其外部的驱动机构B驱动滑动；等离子真空腔体及等离子处理设备都采用了所述翻转滑动式腔门结构。本实用新型通过设置旋转真空腔门即可调换其两侧料架托盘的位置，进而实现快速更换进出材料的目的。
基本信息
专利标题 ：
翻转滑动式腔门结构、等离子真空腔体及等离子处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920974151.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN210481516U
授权日 ：
2020-05-08
发明人 ：
蔡刚强王琛璐
申请人 ：
苏州卫鹏机电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区金山路198号
代理机构 ：
北京东正专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘瑜冬
优先权 ：
CN201920974151.5
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2022-06-07 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/54
申请日 : 20190626
授权公告日 : 20200508
终止日期 : 20210626
申请日 : 20190626
授权公告日 : 20200508
终止日期 : 20210626
2020-05-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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