等离子清洗机的清洗腔体结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种等离子清洗机的清洗腔体结构，包括：腔体下盖、电极框架、腔体上盖和驱动机构；所述下盖腔体的底部设有第一玻璃板，所述第一玻璃板的四个角设置有绝缘座，所述绝缘座的上侧设有第二玻璃板，所述第二玻璃板的四个角支撑于所述绝缘座上；所述电极框架安装于所述第二玻璃板上，电极框架通过导线与射频电源的阳极相连；所述腔体上盖盖合在所述腔体下盖上，腔体上盖与腔体下盖之间形成密封腔体；所述驱动机构用于驱动所述腔体上盖与腔体下盖打开或盖合。本实用新型在相同的清洗时间下，使用的射频电源的功率更小，清洗时材料的温度更低，射频电源的寿命更长。
基本信息
专利标题 ：
等离子清洗机的清洗腔体结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921741572.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-17
授权号 ：
CN210701513U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
张春辉
申请人 ：
江苏胜辉半导体设备有限公司;张春辉
申请人地址 ：
江苏省徐州市经济技术开发区凤凰湾电子信息产业园A9号厂房
代理机构 ：
北京酷爱智慧知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈巍
优先权 ：
CN201921741572.X
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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