真空腔室的真空控制结构

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摘要

本实用新型涉及真空控制结构的技术领域，公开了真空腔室的真空控制结构，包括处于常开状态的真空泵、主干管道以及多个分流管道，真空泵与主干管道连接，多个分流管道分别与主干管道连通，分流管道连通有腔室，分流管道上设置有阀门；由于真空泵处于常开状态，主干管道以及分流管道内始终处于真空状态，抽真空时，打开阀门，真空泵只需要抽取真空腔室内的气体，不需要抽取主干管道以及分流管道内的气体，减小了气体的抽取量，节约抽真空的时间，缩短真空腔室达到所需气压的时间，提高了抽真空的效率。

基本信息

专利标题：

真空腔室的真空控制结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921476619.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-05

授权号：

CN210599315U

授权日：

2020-05-22

发明人：

黄奕宏刘驰秦超尹国伟刘瑶林方明登韩宁宁曹术陈锦杰杨杰庄庆波林锋邓慧建黄露徐星明温业锋陈浩林伟龙

申请人：

深圳市深科达智能装备股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区福永街道征程二路2号A栋、B栋第一至三层、C栋第一层、D栋

代理机构：

深圳市壹品专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

江文鑫

优先权：

CN201921476619.4

主分类号：

F04B37/14

IPC分类号：

F04B37/14 H01J37/32