一种真空腔室密封机构
授权
摘要
本实用新型涉及真空工艺处理技术领域，尤其是一种真空腔室密封机构，其特征在于：该机构包括膨胀顶推机构和密封体，所述膨胀顶推机构与所述密封体连接，所述膨胀顶推机构利用自身体积膨胀实现对所述密封体的顶推，所述密封体在所述膨胀顶推机构的作用下位移并压合至所述真空腔室待密封位置实现密封。本实用新型的优点是：可以在有限的空间内，既保证了真空腔室的独立性；密封效果好，保证真空腔室内的真空度；结构简单合理，便于自动化控制，适于推广。
基本信息
专利标题 ：
一种真空腔室密封机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122164594.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-08
授权号 ：
CN216306707U
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
余龙周斌渡邉優张波裴蓓曹永军加藤弘樹吕启蒙
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202122164594.8
主分类号 ：
F16J15/10
IPC分类号 ：
F16J15/10 F16J15/14
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F16
工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J15/00
密封
F16J15/02
在相对固定的面之间
F16J15/06
带有压紧在密封面之间的固体填料
F16J15/10
带有非金属填料
法律状态
2022-04-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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