一种真空腔体清洁密封装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空腔体清洁密封装置，属于晶体制备技术领域；包括压缩空气清洁装置和真空吸收装置，压缩空气清洁装置的压缩空气喷射口设置在真空炉的上盖内侧；真空吸收装置的真空吸收口设置在真空腔体上沿的密封O圈两侧；压缩空气喷射口与真空吸收口相对应；本实用新型通过实现分体式腔体的上盖落在真空腔体上沿前，实现对密封O圈所有位置进行清洁，同时将灰尘和异物进行清理的功能，解决了真空炉真空腔体密封O圈清洁不到位影响密封效果的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空腔体清洁密封装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122963806.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
CN216631873U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
周环宇周立平刘英斌杨凯
申请人 ：
山西烁科晶体有限公司
申请人地址 ：
山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路5号
代理机构 ：
太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
崔雪花
优先权 ：
CN202122963806.9
主分类号 ：
B08B5/02
IPC分类号 ：
B08B5/02 B08B5/04 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁，如吹清凹处
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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