一种多道真空密封、水冷结构保护的真空气缸
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摘要
本实用新型涉及气缸设备的技术领域，尤其是一种多道真空密封、水冷结构保护的真空气缸，其特征在于：所述气缸缸体前端内壁设有若干均匀布置的凹槽，每一所述凹槽均放置有与其配合的动密封圈，所述动密封圈布设于所述气缸连杆外围形成动密封结构；所述气缸缸体上设置有环绕所述动密封圈布置的冷却水道。本实用新型的优点是：采用了动密封圈配置气缸水冷结构，可直接装配在高温真空系统稳定使用；气缸动作过程，动密封状态气密性好，真空度变化小，对制层工艺影响小；导向及重复性好；耐用性好。
基本信息
专利标题 ：
一种多道真空密封、水冷结构保护的真空气缸
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021027326.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-08
授权号 ：
CN213206553U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
龙汝磊戴秀海裴蓓
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202021027326.0
主分类号 ：
F16J15/324
IPC分类号 ：
F16J15/324 F15B15/14
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法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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