一种离子件成型用离子发射装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种离子件成型用离子发射装置,包括离子发射装置和磁吸分析装置和离子加速装置,所述离子发射装置和磁吸分析装置和离子加速装置固定安装在壳体上,所述离子发射装置包括离子发生装置和离子吸出装置,所述离子加速装置包括真空泵和加速线圈,离子加速装置的下端可拆卸安装有离子约束装置,所述离子约束装置中设置有位于离子发射路径上的导向孔。本实用新型是一种结构简单,发射精度高,且可调节精度的离子件成型用离子发射装置。
基本信息
专利标题 :
一种离子件成型用离子发射装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921783215.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-23
授权号 :
CN210272245U
授权日 :
2020-04-07
发明人 :
易民开杜印邱远攀贺帮志
申请人 :
昆山海利菲精密机械有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇城北水秀路1911号3号房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921783215.X
主分类号 :
H01J37/09
IPC分类号 :
H01J37/09 H01J37/08 H01J37/30 H01J37/04
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
H01J37/09
光阑;与电子或离子光学装置相联的屏蔽;干扰场的补偿
法律状态
2020-04-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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