一体式水离子发射装置
授权
摘要
本实用新型公开一种一体式水离子发射装置，包括电压产生装置、控制组件以及水离子发射端，电压产生装置用于提供电压大于或等于3500V的电场，水离子发射端包括高压引导环和制冷组件，高压引导环与电压产生装置连接，电压产生装置控制高压引导环；制冷组件包括散热板、第一制冷片、第二制冷片以及凝水头，第一制冷片和第二制冷片均连接于散热板，凝水头连接于散热板，凝水头与高压引导环相对设置，凝水头靠近第一制冷片和第二制冷片设置，第一制冷片和第二制冷片沿凝水头的长度方向间隔设置；其中，控制组件用于控制第一制冷片和第二制冷片，控制组件与散热板电性连接，且为一体结构。本实用新型技术方案能够减小水离子发射装置的体积。
基本信息
专利标题 ：
一体式水离子发射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122962209.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
CN216750650U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
王宇赵飞赵冶
申请人 ：
北京众清科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区农大南路1号院8号楼1层101-1004
代理机构 ：
深圳市恒程创新知识产权代理有限公司
代理人 ：
钟永翠
优先权 ：
CN202122962209.4
主分类号 ：
H01T23/00
IPC分类号 ：
H01T23/00
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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