一种CVD金刚石可变中性密度滤波片装置

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摘要

本实用新型公开了一种CVD金刚石可变中性密度滤波片装置，包括外部框架、镜片和镜片固定轴，所述镜片可旋转设于外部框架内部，所述镜片固定轴一端设于外部框架内一侧壁，所述镜片固定轴另一端贯穿镜片中心设于外部框架内另一侧壁上，所述镜片为CVD金刚石材质设置的镜片，所述镜片设有若干组CVD金刚石片，所述CVD金刚石片为扇形结构设置的CVD金刚石片，所述CVD金刚石片顶点处开有中心孔，所述若干组CVD金刚石片以中心孔重叠的方式相互交叠，所述镜片固定轴贯穿若干组CVD金刚石片中心孔。本实用新型属于光电子科学技术领域，具体是指一种可调节光学密度的CVD金刚石可变中性密度滤波片装置。

基本信息

专利标题：

一种CVD金刚石可变中性密度滤波片装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921788184.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-23

授权号：

CN210864097U

授权日：

2020-06-26

发明人：

赵芬霞蒋荣方刘宏明王骏

申请人：

湖州中芯半导体科技有限公司

申请人地址：

浙江省湖州市吴兴区高新区中横港路33号2号厂房5号

代理机构：

北京盛凡智荣知识产权代理有限公司

代理人：

刘晓明

优先权：

CN201921788184.7

主分类号：

G02B5/20

IPC分类号：

G02B5/20 G02B7/00