光学系统调节装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种光学系统调节装置,包括:工作台;第一光学系统;第二光学系统;X轴调节模组,用于调节第一光学系统和第二光学系统在X轴上的间距,X轴调节模组连接于第一光学系统和第二光学系统之间;以及Y轴调节模组,用于调节第一光学系统和第二光学系统在Y轴上的间距,Y轴调节模组连接于工作台和第二光学系统之间。本实用新型提供的光学系统调节装置,采用模组移动的方式调节第一光学系统和第二光学系统在X轴及Y轴上的视野偏差,避免使用螺钉调节等手动旋转调节方式,减小了机械误差,能够更精确地调节两个光学系统。
基本信息
专利标题 :
光学系统调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921803735.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-24
授权号 :
CN211318246U
授权日 :
2020-08-21
发明人 :
李彪
申请人 :
深圳市派科斯科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区凤凰街道高新技术产业园区邦凯路9号邦凯科技城2号C栋厂房3楼3A
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
刘艳
优先权 :
CN201921803735.2
主分类号 :
G01N21/956
IPC分类号 :
G01N21/956 G01N21/01
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
G01N21/956
检测物品表面上的图案
法律状态
2020-08-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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