一种光路装置以及OCT成像系统
专利权的保全及其解除
摘要

本实用新型属于光学相干层析技术领域,尤其涉及一种光路装置以及OCT成像系统。光路装置包括:光路结构,光路结构包括振镜以及平面反射结构,振镜用于从耦合器接收一分光束并向外偏转反射分光束,振镜具有第一偏转状态以及第二偏转状态,振镜处于第一偏转状态时将分光束反射向平面反射结构,而处于第二偏转状态时则将分光束反射向待测样品。光路结构至少设置有两个,各振镜分别从耦合器接收一分光束,至少一个振镜处于第一偏转状态,至少一个振镜处于第二偏转状态。本实用新型不但使任意一光路结构具备参考臂光路结构的功能以及样品臂光路结构的功能,扩大了单一光路结构的功能范围,而且所有的光路结构在功能和结构上等效,降低生产成本。

基本信息
专利标题 :
一种光路装置以及OCT成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921843180.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-29
授权号 :
CN211426269U
授权日 :
2020-09-04
发明人 :
苏胜飞
申请人 :
深圳市太赫兹科技创新研究院有限公司;华讯方舟科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区西乡街道宝田一路臣田工业区第37栋二楼东
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
郭雨桐
优先权 :
CN201921843180.4
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2021-07-30 :
专利权的保全及其解除
专利权的保全IPC(主分类) : G01N 21/45
申请日 : 20191029
授权公告日 : 20200904
登记生效日 : 20210630
2020-09-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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