一种坩埚保护支架
授权
摘要
本实用新型公开了一种坩埚保护支架，包括：底板，设置有至少两个条形插孔，条形插孔的轴线与底板的板面垂直；支撑架，支撑架设有与条形插孔相匹配的插接部，支撑架与底板通过插接部插接，支撑架设有用于承托坩埚的承托部。在坩埚清洗过程中，将坩埚放置在该保护支架内，使得坩埚比较脆弱的上沿处于悬空状态，避免了清洗槽对坩埚上沿造成损伤，降低了清洗过程中坩埚的损坏率，延长了坩埚使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种坩埚保护支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921860794.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-31
授权号 ：
CN210907202U
授权日 ：
2020-07-03
发明人 ：
何军舫
申请人 ：
北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇（天津）半导体材料有限公司;博宇（朝阳）半导体科技有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区工业开发区
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郑久兴
优先权 ：
CN201921860794.3
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2020-07-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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