一种半导体清洗液温控循环系统，属于半导体清洗处理技术领域，包括储液池和控制器，所述储液池侧壁上部安装有补液阀，储液池侧壁下部安装有出液阀，所述出液阀通过循环管依次连接安装有主泵、加热炉、加热装置和清洗槽，所述清洗槽设排液口，排液口通过循环管连接到储液池底部。通过储液池补液循环，经主泵提供动力，先经前序工艺中的加热炉预加热循环液，再通过加热装置加热到预定温度，接入到清洗槽中，通过一定液位和温度的清洗液对半导体进行清洗处理，然后通过清洗槽排液口循环至储液池，完成整个循环，节省加热能源量，节省加热成本，同时利用前序工序中加热炉余热预加热，避免热量浪费，提高能源利用率。